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钨元素含量测定:测量钨的质量百分比,参数包括测量范围0.1%至100%,精度±0.5%。
碳杂质分析:检测碳元素含量,参数如检测限0.05%,测量误差±0.02%。
氧含量定量:分析氧元素浓度,参数包括范围0.01%至10%,相对标准偏差1%。
其他元素识别:测定铁、镍等微量元素,参数涵盖元素列表和最小检测量0.1%。
元素分布映射:生成微区元素分布图像,参数如空间分辨率1微米,像素大小0.5微米。
定量精度评估:计算测量结果的相对误差,参数如标准偏差小于2%。
检测限确定:定义最小可检测元素量,参数针对轻元素为0.5%,重元素为0.1%。
空间分辨率控制:指定分析区域尺寸,参数如电子束斑大小0.1微米。
能谱峰拟合分析:使用高斯模型进行峰形拟合,参数包括峰宽和积分强度。
背景噪声扣除:处理能谱背景干扰,参数如扣除算法和噪声水平0.1%。
钨合金材料:用于航空航天高温部件,具有高熔点和强度。
钨涂层应用:增强切削工具表面耐磨性,延长使用寿命。
钨丝产品:电子行业灯丝材料,要求高纯度和均匀性。
钨粉末原料:冶金过程添加剂,用于合金制备和烧结。
钨复合材料:结构材料领域,结合高密度和韧性。
钨靶材用途:溅射镀膜源材,用于薄膜沉积工艺。
钨电极组件:焊接工业电极,需耐高温和导电性。
钨硬质合金:工具制造切削头,强调硬度和耐磨性。
钨核材料:核工业辐射屏蔽,要求高原子序数。
钨化学催化剂:化工反应催化剂,涉及表面成分分析。
ASTM E1508: 能谱微区定量分析标准实践,涵盖校准和测量程序。
ISO 22309: 微束分析能谱定量方法,规定数据采集和处理。
GB/T 17359: 微区能谱定量分析方法通则,包括元素识别和计算。
GB/T 20124: 钢铁中氮含量的测定,适用于钨合金杂质分析。
ASTM E884: 电子探针微分析标准,涉及波长色散谱应用。
ISO 17470: 微束分析能谱定性点分析指南,支持元素鉴定。
GB/T 14233: 金属材料微区成分分析方法,规范样品制备。
扫描电子显微镜:提供高分辨率二次电子图像,用于定位微区分析点并观察样品 morphology。
能谱仪: attached to electron microscope, collects characteristic X-ray spectra for element identification and quantitative analysis.
波长色散谱仪: offers high spectral resolution for precise element separation, used in complex matrix analysis.
电子探针微分析仪:专门设计 for quantitative microanalysis with high accuracy, employing focused electron beams.
样品制备系统:包括抛光机和 coating device,用于制备平滑、导电样品表面以确保分析质量。
真空系统:维持分析室高真空环境,确保电子束稳定性和减少干扰。
数据处理计算机:运行专业分析软件,进行能谱处理、峰拟合和定量计算。