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霍尔迁移率:基于霍尔效应测量载流子迁移行为,参数包括迁移率值、载流子浓度、电阻率。
时间飞行迁移率:通过载流子渡越时间计算迁移率,参数包括渡越时间、电场强度、样品厚度。
场效应迁移率:利用场效应晶体管结构测量,参数包括阈值电压、迁移率、栅极电压。
光电导迁移率:通过光生载流子测量迁移率,参数包括光强、导电率变化、响应时间。
温度依赖性迁移率:在不同温度下评估迁移率变化,参数包括温度范围、激活能、热稳定性。
应力依赖性迁移率:施加机械应力测量迁移率偏移,参数包括应力大小、应变率、迁移率变化量。
频率依赖性迁移率:采用交流测量技术,参数包括频率范围、介电常数、损耗因子。
载流子浓度测量:间接支持迁移率计算,参数包括浓度值、散射机制。
电阻率测量:基础电学参数,参数包括电阻值、样品几何尺寸、温度系数。
电容-电压特性:用于提取迁移率相关参数,参数包括电容值、电压扫描范围、掺杂浓度。
硅基半导体材料:单晶硅、多晶硅等晶体材料。
化合物半导体:砷化镓、磷化铟等III-V族材料。
有机半导体材料:用于柔性电子和显示技术。
纳米材料:碳纳米管、石墨烯等低维材料。
薄膜半导体:化学气相沉积或溅射制备的薄膜。
光伏材料:太阳能电池用硅、钙钛矿等。
电子器件:晶体管、二极管等半导体元件。
光电设备:发光二极管、激光二极管等光电器件。
集成电路材料:芯片制造中的衬底和互连材料。
新型半导体材料:如二维材料、量子点等。
ASTM F76标准用于霍尔效应测量。
ISO 14707涉及表面分析技术。
GB/T 1550-1997半导体材料电阻率测试方法。
GB/T 4326-2006半导体材料霍尔系数测量。
ISO 1853导电材料电阻率测定。
GB 4937半导体器件测试规范。
ASTM F398标准关于光电导测量。
ISO 16700微束分析标准。
GB/T 14264半导体材料术语。
ASTM F1529用于薄膜电阻测试。
霍尔效应测试系统:测量霍尔电压和迁移率,功能包括磁场施加和电压检测。
时间飞行测量装置:记录载流子渡越时间,功能包括脉冲生成和时间分辨率控制。
场效应测试系统:基于晶体管结构测量迁移率,功能包括栅极电压扫描和电流测量。
光电导衰减测试仪:评估光生载流子行为,功能包括光脉冲发射和导电率监测。
阻抗分析仪:进行交流电学测量,功能包括频率扫描和阻抗参数提取。