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界面反应层厚度测量:使用TEM图像直接测量界面层的厚度。具体检测参数包括测量精度±0.1 nm,厚度范围1-100 nm。
晶体结构分析:通过电子衍射模式分析界面区域的晶体结构。具体检测参数包括晶格常数测量,衍射斑点索引。
元素成分分析:利用能谱仪进行元素定性和定量分析。具体检测参数包括元素检测限0.1 at%,空间分辨率1 nm。
高分辨率成像:获取界面区域的高分辨率透射电子显微镜图像。具体检测参数包括图像分辨率0.1 nm,放大倍数10,000 to 1,000,000倍。
缺陷分析:观察和量化界面处的缺陷如位错、空位。具体检测参数包括缺陷密度计算,尺寸分布统计。
相界面表征:分析不同相之间的界面特性和相容性。具体检测参数包括界面能估算,相分布 mapping。
厚度均匀性评估:评估反应层厚度的均匀性 across the sample。具体检测参数包括厚度变异系数<5%,标准偏差计算。
界面粗糙度测量:测量界面表面的粗糙度参数。具体检测参数包括RMS粗糙度,范围0.1-10 nm。
应变分析:通过几何相位分析测量界面区域的应变场。具体检测参数包括应变精度±0.1%,应变范围-10% to 10%。
电子能量损失谱分析:使用EELS进行化学键合状态和元素 mapping。具体检测参数包括能量分辨率0.1 eV,元素特异性分析。
半导体异质结:用于测量半导体器件中界面层的厚度和结构特性。
金属薄膜涂层:分析涂层与基材之间的界面反应层,如抗氧化涂层。
陶瓷复合材料:表征陶瓷相之间的界面特性,如碳化硅复合材料。
聚合物多层膜:检测聚合物界面层的厚度和相容性,用于包装材料。
电池电极材料:分析电极与电解质界面反应层,如锂离子电池。
纳米结构材料:用于纳米颗粒或纳米线的界面表征,如量子点。
生物材料涂层:如医用植入物表面的生物涂层界面分析。
光学薄膜:测量光学涂层中的界面厚度,如抗反射涂层。
焊接接头:分析焊接区域的界面反应层,用于可靠性评估。
催化材料:表征催化剂载体与活性组分的界面,用于性能优化。
ASTM E1508: JianCe Practice for Quantitative Analysis by Energy-Dispersive Spectroscopy。
ISO 16700: Microbeam analysis - Scanning electron microscopy - Guidelines for calibrating image magnification。
GB/T 17359-2012: 微束分析 能谱仪定量分析方法通则。
ISO 25498: Microbeam analysis - Analytical electron microscopy - Quantitative analysis using energy-dispersive X-ray spectroscopy。
ASTM E766: JianCe Practice for Calibrating the Magnification of a Scanning Electron Microscope。
ISO 19214: Microbeam analysis - Analytical transmission electron microscopy - Method for calibration of image magnification。
GB/T 20721-2006: 微束分析 透射电子显微镜方法通则。
ISO 29301: Microbeam analysis - Analytical electron microscopy - Methods for calibrating the spatial distortion of TEM images。
透射电子显微镜:高真空电子光学仪器,用于纳米级成像和结构分析。在本检测中用于获取高分辨率图像进行厚度测量。
能谱仪:X射线能谱分析附件,用于元素定性定量分析。在本检测中用于分析界面区域的元素成分分布。
电子能量损失谱仪:分析电子能量损失,用于化学状态分析。在本检测中用于测定界面化学键合状态。
样品制备系统:包括离子减薄仪、超微切片机等,用于制备TEM样品。在本检测中用于制备电子透明薄片以确保成像质量。
图像分析软件:计算机软件用于图像处理和分析。在本检测中用于自动厚度测量、图像校准和数据分析。