XPS无损检测

检测项目

元素组成分析：识别表面元素种类和相对含量。检测参数包括元素灵敏度因子、能量分辨率0.1eV。

化学状态分析：确定元素氧化态和化学环境。检测参数包括结合能 shifts、峰形分析。

深度剖析：通过离子溅射分析层状结构。检测参数包括溅射速率、深度分辨率。

价带谱分析：研究价电子结构。检测参数包括价带谱强度、费米边定位。

角分辨XPS：分析表面敏感性和取向。检测参数包括发射角、信息深度。

定量分析：计算元素原子百分比。检测参数包括峰面积、灵敏度因子。

污染分析：检测表面有机或无机污染物。检测参数包括碳污染峰、元素比率。

薄膜厚度测量：评估超薄膜层厚度。检测参数包括衰减长度、覆盖层信号。

界面分析：研究界面化学组成。检测参数包括界面宽度、元素 interdiffusion。

能带结构分析：测量能带偏移和带隙。检测参数包括价带最大、导带最小。

检测范围

半导体材料：硅、锗等半导体表面分析。

金属材料：钢铁、铜合金的腐蚀和涂层分析。

聚合物材料：塑料、橡胶的表面改性研究。

陶瓷材料：氧化物、氮化物的表面化学。

生物材料：植入物表面的生物相容性分析。

纳米材料：纳米颗粒、薄膜的表面特性。

电子器件：集成电路、显示器的界面分析。

催化剂：贵金属催化剂的表面状态。

环境样品：大气颗粒物、沉积物的元素分析。

考古样品：文物表面的腐蚀和保护层分析。

检测标准

ASTM E1523: X射线光电子能谱仪性能验证标准。

ISO 15472: XPS仪器校准和性能评估。

GB/T 19500: X射线光电子能谱分析方法通则。

ISO 19318: XPS数据报告指南。

ASTM B822: 金属粉末表面化学分析。

GB/T 17359: 电子能谱分析方法。

ISO 18118: XPS定量分析标准。

ASTM E2108: XPS深度剖析标准。

GB/T 33345: 表面化学分析-X射线光电子能谱。

ISO 20903: XPS重复性和再现性。

检测仪器

X射线光电子能谱仪：激发光电子并测量动能，用于元素和化学状态分析。

单色化X射线源：提供单色X射线以提高能量分辨率，减少背景噪声。

电子能量分析器：精确测量光电子动能，实现高分辨率谱图。

离子枪：用于样品清洁和深度剖析，通过溅射移除表面层。

样品台：支持样品定位、倾斜和旋转，用于角分辨测量。

电荷中和系统：补偿绝缘样品充电，确保准确测量。

真空系统：维持高真空环境，减少气体干扰。

探测器：如通道电子倍增器，用于电子计数。

数据采集系统：收集和处理谱图数据。

校准标准：如金、银标准样品，用于仪器校准。