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表面形貌观察:高分辨率观测样品微观结构。具体检测参数包括放大倍数100x~500000x、分辨率0.5nm~5nm、工作距离3mm~30mm。
元素成分分析:通过能谱技术确定元素组成。具体检测参数包括元素检测范围原子序数4~92、精度0.1wt%、能谱分辨率100eV。
形貌三维重建:构建样品立体表面模型。具体检测参数包括切片厚度10nm~100nm、重建算法基于立体对图像、z轴精度5nm。
薄膜厚度测量:评估涂层或层状结构尺寸。具体检测参数包括厚度范围10nm~10μm、误差2%、测量方法截面观测。
颗粒大小分布:分析颗粒尺寸统计特征。具体检测参数包括粒径范围1nm~100μm、分布统计直方图、计数精度5%。
晶体结构分析:识别晶体取向和相组成。具体检测参数包括衍射模式菊池线分析、取向偏差0.5度、晶格常数精度0.001nm。
缺陷检测:识别表面裂纹或孔洞。具体检测参数包括缺陷大小检测下限10nm、灵敏度依据图像对比度、缺陷密度计算。
界面分析:研究材料界面结构特征。具体检测参数包括界面厚度测量范围1nm~1μm、元素扩散系数计算、界面结合强度评估。
生物样品成像:观察生物组织微观形态。具体检测参数包括样品脱水处理标准、加速电压1kV~5kV、电荷积累控制参数。
纳米结构表征:分析纳米尺度几何特征。具体检测参数包括纳米分辨率0.1nm~1nm、特征提取算法基于图像处理、尺寸均匀性偏差3%。
材料相分析:确定多相混合物中各相分布。具体检测参数包括相识别精度1%、面积分数测量、元素映射重叠分析。
动态行为观测:实时记录样品变形过程。具体检测参数包括时间分辨率10ms、应变测量范围0%~100%、原位加载力控制0.1N~100N。
金属材料:工业合金表面腐蚀和磨损评估。
半导体器件:集成电路微观结构完整性检查。
陶瓷和玻璃:断裂面形貌和成分均匀性分析。
高分子聚合物:表面粗糙度和相分离观测。
生物组织:细胞膜结构和组织病理学特征成像。
纳米材料:颗粒分散状态和尺寸分布测量。
涂层材料:薄膜附着力和厚度一致性检测。
地质样品:矿物组成和微观孔隙结构表征。
电子产品:焊点连接和电路缺陷识别。
复合材料:纤维增强界面和基体结合评估。
环境颗粒:污染物形态和来源分析。
考古样品:文物表面退化机制研究。
ASTME1508-12金属材料表面形貌分析标准。
ISO16700:2016扫描电镜成像分辨率校准规范。
GB/T33522-2017材料成分能谱分析方法。
ISO19749:2021纳米颗粒尺寸分布测量指南。
ASTME766-14电子显微镜校准规程。
GB/T36063-2018薄膜厚度扫描电镜测量标准。
ISO21363:2020纳米材料形貌表征规范。
GB/T33825-2017生物样品制备技术规程。
ASTMF1372-93半导体器件缺陷检测方法。
ISO17470:2014微束分析元素映射标准。
扫描电子显微镜:高真空电子光学系统设备。在本检测中执行表面形貌成像和放大操作。
能谱分析仪:X射线能量探测器装置。在本检测中实现元素成分定量和分布映射。
背散射电子探测器:电子散射信号采集器件。在本检测中提供材料成分对比度成像功能。
原位拉伸测试台:机械加载和位移控制平台。在本检测中支持动态变形观测和应变测量。
低温样品台:温度调节和冷却系统。在本检测中确保生物样品稳定成像并减少电荷积累。
电子束光刻系统:纳米级图案制备工具。在本检测中结合形貌分析进行微纳结构修改。
电荷中和装置:离子束电荷补偿设备。在本检测中消除非导电样品表面静电干扰。
三维重建软件:图像处理和建模程序。在本检测中执行立体对数据重建和表面拓扑分析。